テーマ:「日本の半導体　復活への道」

開催概要 　マホや家電のほか、ＡＩや自動運転など次世代産業に不可欠で今後１００兆円市場とされる半導体ですが、２０２０年末頃から突然発生した半導体不足によりモノが作れない状態に陥り、未だにその影響が続いています。
今回は、モノづくりにおける学び直しとして、この「半導体」に焦点を当て、「半導体」の仕組みと役割、日本が世界との競争から取り残された経緯、今後の展開などについて、半導体ビジネスに深く関わってこられた専門家から、文系経営者の方にも分かりやすく解説いただきます。
是非、多数ご出席くださいますようご案内申し上げます。
開催日程
2023/3/22（水）　12:30　～　14:30
対象 会員企業役員・幹部
会場 京都工業会・会議室
講師 株式会社SCREENホールディングス  シニアフェロー・理学博士　　
京都先端科学大学国際学術研究院　特任教授（非常勤）
灘 原 壮 一　氏
＜講師プロフィール＞
1986～1992年　株式会社東芝
顕微Raman分光分析法による微小領域の応力測定、有限要素法を用いた応力シミュレーション技術開発に従事。また、超高分解能電子顕微鏡を導入し、ドライエッチングによる結晶へのダメージや酸化によるシリコン結晶の応力変形、シリコン基板中の酸素析出物形成、イオン注入による欠陥形成や酸素析出、金属不純物のゲッタリング（金属捕捉）現象など、数々のプロセスの可視化に成功した。
非酸化性ガスを用いた高温(1200℃)アニール技術開発を開発、シリコン基板中の酸素析出物の挙動を制御することによりゲート酸化膜の高品質化を達成し、量産工場の歩留まり向上に大きく寄与した。また、シリコン基板中の金属不純物の拡散、析出挙動の解明を行い、製造プロセスの清浄化に寄与した。

1993～1997年　東芝アメリカ電子部品社 開発主務
米国ニューヨーク州におけるIBM-Siemens-東芝による256MDRAM開発プロジェクトに洗浄技術、清浄化技術、プロセス評価技術の主担当として参画した。現在の洗浄プロセスの低温化、低濃度化、低ダメージ化の礎となる高性能、省フットプリントの新規洗浄技術・装置を開発した。

1997～2004年　出向帰任　株式会社東芝セミコンダクター社　グループ長、開発主査
帰国後、引き続き洗浄技術、清浄化技術に注力し、開発メンバーを取りまとめ、プロセスの高性能化、高生産性、薬品使用量削減、低コスト化等、環境配慮型の先端プロセスを構築した。
また、デバイスから装置、材料にわたる一連の業界関係者を集めた表面汚染制御セミナーを毎年主催し、業界のコミュニケーションの促進を図った。

2004～2012年　大日本スクリーン製造株式会社　半導体機器カンパニー　副社長
洗浄装置、熱処理装置、コータデベロッパ等の製品へ導入する新規技術開発をリードし、海外コンソーシアムとの活動を促進。国内外の半導体デバイスメーカのトップマネジメントとの技術レビュー会議を四半期毎に開催し、自社製品のシェアー拡大に貢献した。

2013～2021年　株式会社SCREENホールディングス（社名変更）常務取締役　CTO
事業会社の技術を統括すると共に国内外の大学やコンソーシアム、更に企業間連携を進め、オープンイノベーションによる技術獲得を促進。表面処理技術、直接描画技術、画像処理技術をコア技術と定め、細胞培養から医療の領域や部品検査計測領域への事業展開を図った。

2021年～　　　同社　シニアフェロー
引き続き、各事業会社、ホールディングスにおける技術支援、社内外との人材交流、情報交換等、オープンイノベーション活動を継続し、現在に至っている。

京都先端科学大学国際学術研究院　特任教授（非常勤）
 
参加費  お一人様　9,000円（昼食込）
募集定員 30
申込方法 本ホームページよりお申し込みください。
申し込み期限 2023/3/17（金）
お問い合わせ先 担当：矢谷・西岡・金井
　新型コロナウイルス感染防止への注意が今なお必要ではありますが、本クラブは会員企業の経営トップや幹部の方々が直接顔を合わせて情報交換・交流等を行っていただくのが本来の姿ですので、席の間隔を空けるなど感染防止策を講じたうえで開催したいと考えておりますので、ご理解の上是非ご参加いただきますようお願いいたします。
　今回も特例としてZOOMによるWeb参加に対応いたします。ご希望の方は申し込みの際にご明記ください。（会費は通常のご参加と同様とさせていただきます。）

　

開催日程・内容

■ 2023/3/22（水）　12:30　～　14:30

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